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Hochreines FFKM
FFKM mit geringer Ausgasung und geringem Extraktanteil für kontaminationsempfindliche Prozesse.
Hochreine FFKM-Compounds werden so formuliert und verarbeitet, dass Ausgasung und extrahierbare Kontamination minimiert werden — die beiden Mechanismen, die in Halbleiter- und Vakuumprozessen am häufigsten die Ausbeute begrenzen.
Ausgewählte Typen zielen auf sehr niedrigen Gesamtmasserverlust (TML) und gesammelte flüchtige kondensierbare Materialien (CVCM) nach ASTM E595 sowie auf geringe extrahierbare Metallionen und geringe Partikelbildung.
Wesentliche Merkmale
- Formuliert für geringe Ausgasung und geringe Extrahierbarkeit
- Zielwerte TML ≤ 0,1 % und CVCM ≤ 0,01 % nach ASTM E595 — vor Go-live durch den Prüfbericht des Kunden zu ersetzen
- Reduzierte extrahierbare Metallionen (OMS7102 ist der Typ mit niedrigem Metallionengehalt)
- Geringe Partikelbildung für Reinraumprozesse
- Ausgelegt für Plasma-, Ätz-, CVD- und UHV-Dichtungen
Spezifikationen
- TML / CVCM
- Je Typ, ASTM E595 — Kundenprüfbericht
- Extrahierbare Metallionen
- Reduziert — OMS7102 ist der Typ mit niedrigem Metallionengehalt
- Partikelbildung
- Gering — unterstützt Reinraumprozesse
- Nachhärtung / Reinigung
- Auf Anfrage verfügbar
- Endvakuum
- Bis 1,33 × 10⁻⁷ Pa (interner Test) — Kundendaten
- Einsatztemperatur
- Bis +320 °C (OME7505)
Typische Anwendungen
- Plasmaätz-/Veraschungs- und Abscheidekammern
- Gasversorgung, KF-Verschraubungen und Verteiler
- Schaugläser, Spaltventile und Schleusen
- Ultrahochvakuum-(UHV-)Systeme
Normen
ASTM E595 · ASTM D1418 · SEMI F57 (Kontext)
In dieser Produktlinie verwendete Typen
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