Produtos
FFKM de alta pureza
FFKM com baixa libertação de gases e baixos extratáveis para processos sensíveis à contaminação.
Os compostos FFKM de alta pureza são formulados e processados para minimizar a desgaseificação e a contaminação por extraíveis — os dois mecanismos que mais frequentemente limitam o rendimento em processos de semicondutores e de vácuo.
Determinadas qualidades visam uma perda de massa total (TML) e uma massa de materiais voláteis condensáveis recolhidos (CVCM) muito baixas, medidas segundo a ASTM E595, a par de baixos extraíveis de iões metálicos e baixa geração de partículas.
Características principais
- Formulado para baixa desgaseificação e baixos extraíveis
- Metas de TML ≤ 0,1 % e CVCM ≤ 0,01 % segundo a ASTM E595 — a substituir pelo relatório de ensaio do próprio cliente antes do go-live
- Extraíveis de iões metálicos reduzidos (OMS7102 é a qualidade de baixo teor de iões metálicos)
- Baixa geração de partículas para apoiar processos de sala limpa
- Concebido para vedação em plasma, etch, CVD e UHV
Especificações
- TML / CVCM
- Por qualidade, ASTM E595 — relatório de ensaio do cliente
- Extraíveis de iões metálicos
- Reduzidos — OMS7102 é a qualidade de baixo teor de iões metálicos
- Geração de partículas
- Baixa — apoia processos de sala limpa
- Pós-cura / limpeza
- Disponível a pedido
- Vácuo final
- Até 1,33 × 10⁻⁷ Pa (ensaio interno) — dados do cliente
- Temperatura de serviço
- Até +320 °C (OME7505)
Aplicações típicas
- Câmaras de plasma etch / ashing e de deposição
- Distribuição de gases, ligações KF e manifolds
- Visores, válvulas de fenda e câmaras de carga
- Sistemas de ultra-alto vácuo (UHV)
Normas
ASTM E595 · ASTM D1418 · SEMI F57 (contexto)
Graus utilizados nesta linha de produto
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