Productos
FFKM de alta pureza
FFKM de bajo desgasificado y bajo extractables para procesos sensibles a la contaminación.
Los compuestos FFKM de alta pureza se formulan y procesan para minimizar la desgasificación y la contaminación extraíble — los dos mecanismos que con mayor frecuencia limitan el rendimiento en procesos de semiconductores y de vacío.
Determinadas calidades están orientadas a una pérdida de masa total (TML) y unos materiales volátiles condensables recogidos (CVCM) muy bajos, medidos según ASTM E595, junto con bajos extractables de iones metálicos y baja generación de partículas.
Características principales
- Formulado para baja desgasificación y bajos extractables
- Objetivos TML ≤ 0,1 % y CVCM ≤ 0,01 % según ASTM E595 — a sustituir por el informe de ensayo propio del cliente antes de la puesta en marcha
- Extractables de iones metálicos reducidos (OMS7102 es la calidad de bajo contenido en iones metálicos)
- Baja generación de partículas para procesos de sala limpia
- Diseñado para sellado en plasma, grabado, CVD y UHV
Especificaciones
- TML / CVCM
- Por calidad, ASTM E595 — informe de ensayo del cliente
- Extractables de iones metálicos
- Reducidos — OMS7102 es la calidad de bajo contenido en iones metálicos
- Generación de partículas
- Baja — compatible con procesos de sala limpia
- Postcurado / limpieza
- Disponible bajo pedido
- Vacío último
- Hasta 1,33 × 10⁻⁷ Pa (ensayo interno) — datos del cliente
- Temperatura de servicio
- Hasta +320 °C (OME7505)
Aplicaciones típicas
- Cámaras de grabado por plasma / ashing y de deposición
- Suministro de gases, racores KF y colectores
- Visores, válvulas de rendija y esclusas de carga
- Sistemas de ultraalto vacío (UHV)
Normas
ASTM E595 · ASTM D1418 · SEMI F57 (contexto)
Grados utilizados en esta línea de producto
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