Compounds FFKM propriétaires · −42 °C à +320 °C · Quantités de commande flexibles

Produits

FFKM haute pureté

FFKM à faible dégazage et faible extractible pour procédés sensibles à la contamination.

FFKM haute pureté
FFKM à faible dégazage et faible extractible pour procédés sensibles à la contamination.

Les composés FFKM haute pureté sont formulés et mis en œuvre pour minimiser le dégazage et la contamination extractible — les deux mécanismes qui limitent le plus souvent le rendement dans les procédés semi-conducteurs et sous vide.

Certaines nuances sélectionnées visent une perte de masse totale (TML) et une masse de matières volatiles condensables recueillies (CVCM) très faibles, mesurées selon ASTM E595, ainsi que de faibles teneurs en ions métalliques extractibles et une faible génération de particules.

Caractéristiques clés

  • Formulé pour un faible dégazage et de faibles extractibles
  • Objectifs TML ≤ 0,1 % et CVCM ≤ 0,01 % selon ASTM E595 — à remplacer par le rapport d'essai du client avant mise en service
  • Teneur réduite en ions métalliques extractibles (OMS7102 est la nuance à faible teneur en ions métalliques)
  • Faible génération de particules, adaptée aux procédés en salle blanche
  • Conçu pour l'étanchéité en plasma, gravure, CVD et UHV

Spécifications

TML / CVCM
Par nuance, ASTM E595 — rapport d'essai client
Ions métalliques extractibles
Réduite — OMS7102 est la nuance à faible teneur en ions métalliques
Génération de particules
Faible — adaptée aux procédés en salle blanche
Post-cuisson / nettoyage
Disponible sur demande
Vide ultime
Jusqu'à 1,33 × 10⁻⁷ Pa (essai interne) — données client
Température de service
Jusqu'à +320 °C (OME7505)

Applications typiques

  • Chambres de gravure plasma / ashing et de dépôt
  • Distribution de gaz, raccords KF et collecteurs
  • Hublots, vannes à fente et sas de transfert
  • Systèmes à ultra-vide (UHV)

Normes

ASTM E595 · ASTM D1418 · SEMI F57 (contexte)

Nuances utilisées dans cette gamme de produits

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