Aplicaciones
Semiconductores
Juntas FFKM resistentes al plasma y a los productos químicos para la fabricación de obleas.
Qué falla
- El plasma, el HF, el NF₃ y las especies de cloro atacan a los elastómeros convencionales
- La contaminación por partículas y metales reduce directamente el rendimiento de los dispositivos
- Los procesos térmicos de alta temperatura (difusión, epitaxia, RTP) exigen un conjunto de compresión estable
- Los intervalos de servicio prolongados exigen un bajo desgasificado y una baja extracción
Etapas del proceso
Equipos
Grados de partida recomendados
OMS70S
73 Shore A · -10 a +275 °C
Datos del gradoOMS7102
75 Shore A · -10 a +300 °C
Datos del gradoOME7505
75 Shore A · -10 a +320 °C
Datos del gradoOMS7503
70 Shore A · -10 a +275 °C
Datos del gradoAplicación de cada grado
- OMS70S — grado transparente de pureza ultraalta para plasma de O₂ / basado en F
- OMS7102 — grado blanco de bajo contenido de iones metálicos para grabado y CVD
- OME7505 — grado para proceso térmico hasta 320 °C
Otros entornos
Solicitar presupuesto
Hablemos de una aplicación en semiconductores
Indíquenos el medio, la temperatura y el movimiento. Confirmaremos el grado y la clase de tolerancia.
Consulta recibida
Su consulta ha sido registrada. Un ingeniero se pondrá en contacto con usted en un plazo de un día hábil.
Su referencia: —
Se ha enviado una copia a nuestros equipos de ingeniería y ventas. Si no ha recibido noticias nuestras en un plazo de un día hábil, responda al correo de confirmación indicando la referencia anterior.
Seguir viendo grados¿Necesita ayuda para seleccionar un compuesto FFKM?
Envíenos sus condiciones de servicio o un plano y nuestros ingenieros le recomendarán una calidad y confirmarán la disponibilidad.