半导体 Etch / CVD / PVD / ALD · Plasma · Wet process OMS70S——透明超高纯牌号，适用于氧气/含氟等离子体OMS7102——白色低金属离子牌号，适用于刻蚀与 CVDOME7505——热工艺牌号，上限 320 °C 查看工况详情
真空 Vacuum chamber · KF / ISO / CF flange 符合 ASTM E595 的低释气牌号（按牌号提供 TML / CVCM 数据）低压缩永久变形，在烘烤除气全程维持密封载荷内部测试口径可达 1.33 × 10⁻⁷ Pa 查看工况详情
化工腐蚀 Pumps / Valves / Reactors / Piping systems OM7502——湿法工艺与胺类介质耐受牌号OM7542——低温下限达 −42 °COM9090——90 邵氏 A，适用于高压气体与抗挤出工况 查看工况详情
高温工况 Furnaces / Thermal processing OME7505——连续使用温度上限 320 °COMS7102——上限 300 °C，且金属离子含量低OMS7503——压缩永久变形 17 %，适用于干法刻蚀与去胶 查看工况详情
工业 OEM 配套 Pumps / Compressors / Valves / OEM 灵活起订量 + 快速开模，适配 OEM 与 MRO 需求OM7542 低温牌号，适配低温启动设备OM9090 达 90 邵氏 A，适配高压工况 查看工况详情
